400 8877 001國內替代正當時，半導體清洗設備水龍頭發(fā)展迅速
時間：2022-08-11 10:38:00 閱讀：3697 整理：武漢市場調查公司
半導體清洗作為芯片生產中最基本的環(huán)節(jié)貫穿硅片制造、晶圓制造、包裝。隨著技術節(jié)點的進步，清洗過程越來越精細，對清洗設備的需求也會相應增加。
近年來，我國半導體清洗技術和設備不斷完善，盛美上海、純科技、北方華創(chuàng)等企業(yè)成果堪比國際領先企業(yè)。
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公開資料顯示，根據(jù)清洗介質的不同，半導體清洗技術分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線，其中濕法清洗是主流技術路線。
所謂濕法清洗，是指通過腐蝕、溶解、化學反應等方法，利用溶液、酸堿、表面活性劑、水及其混合物，使硅片表面的雜質與溶劑發(fā)生化學反應，產生可溶性物質、氣體或直接脫落，從而達到清洗硅片的目的。
濕法清洗可分為化學方法和物理方法。
化學方法主要是將硅片浸入不同的化學藥劑中以達到清洗的目的。根據(jù)藥劑的不同又有RCA清洗、改進RCA清洗、臭氧清洗、IMEC清潔等多個分支。
物理方法則是將化學藥劑與物理方法結合，通過機械刷洗、超聲波/兆聲波清洗法、二流體清洗法、旋轉噴淋法等物理技術，對硅片進行全面清洗的過程。由于各大企業(yè)使用的藥液基本相同，輔助物理方法成為不同工藝的主要差別。
國內企業(yè)差異化競爭趨勢明顯
目前，全球清洗設備市場主要是迪恩士SCREEN、東京電子TEL、泛林LAM與細美事SEMES四家公司總市場份額達到90%以上，其中迪恩士市場份額超過50%。在清洗方法上，國際巨頭主要采用容器浸泡法、旋轉噴淋法和機械刷洗法，其中旋轉噴淋法是主流路線，目前已完成7項nm以上硅片清洗規(guī)格。但國內情況差異較大，各大清洗設備企業(yè)路線不同，各有突破。
1/盛美上海清洗設備底蘊深厚
在清洗設備方面，盛美上海有著深厚的底蘊。根據(jù)公司財務報告數(shù)據(jù)，半導體清洗設備收入是主要收入來源。公司清洗設備主要包括單片清洗設備、自動槽清洗設備、單片槽組合清洗設備。TEBO兆聲波清洗設備。
公司成功研發(fā)出全球首創(chuàng)公司SAPS、TEBO兆聲波清洗技術及Tahoe單片槽式組合清洗技術，可應用于45nm以下技術節(jié)點的晶圓清洗領域可可有效解決腐蝕后有機污染和顆粒清洗難題，并大幅減少濃硫酸等化學試劑的使用量。
此外，業(yè)界還對盛美上海今年7月中旬推出的新型化學機械進行了研磨(Post-CMP)更注重清洗設備。該清洗設備的6英寸和8英寸配置適用于碳化硅(SiC)襯底制造;硅晶圓制造適用于8英寸和12英寸的配置。
近日，盛美上海宣布投資建設高端半導體設備拓展研發(fā)項目。據(jù)披露，該項目擬開發(fā)的產品包括干法設備拓展產品和超臨界產品CO2清洗干燥設備，總投資7.48億元，其中研發(fā)費用2.6億元。
2/至純科技對標國際巨頭
至純技術擅長單片清洗設備和槽式清洗設備，該公司單片式濕法設備為旋轉噴淋Spin-Spray類型，其對標迪恩士SCREEN、泛林LAM等企業(yè)。業(yè)界消息顯示，至純科技能提供全部28nm節(jié)點濕法設備，有望成為高端濕法設備的領導者。
據(jù)至純科技財報數(shù)據(jù)顯示，2021年，該公司濕法設備在幾條成熟生產線上獲得了整條線的設備訂單，有效取代了以前的制造商;公司還在氮化鎵和碳化硅生產線上獲得了整條線的濕法設備訂單;公司還在先進工藝的28納米節(jié)點獲得了所有工藝的設備訂單;在14納米以下制程也拿到了4臺濕法設備訂單。
2021 年公司的單片濕法設備和槽式濕法設備全年出機超過了97臺。同時12英寸濕法設備新訂單超過6億元，其中單片濕法設備新訂單超過3.8億元。2021年，公司子公司至微科技成功引進多家戰(zhàn)略投資者，助力業(yè)務加快發(fā)展。
此外，今年一季報至純科技公司主營收入5.48億元，同比增長136.98%。恰逢半導體設備發(fā)展的黃金時期，近兩年純科技合同負債和存貨持續(xù)增長，2021年至純科技合同負債和存貨分別為2.40億元和11.95億元，創(chuàng)歷史新高，也代表著公司在手訂單規(guī)模不斷擴大，今年公司新訂單目標超過40億元。
3/北方華創(chuàng)重視設備全鏈條發(fā)展
北華創(chuàng)作為國內半導體設備龍頭企業(yè)，公司產品線相對齊全。經(jīng)過多年的深入研發(fā)該公司完成了刻蝕機、磁控濺射、氧化爐、低壓化學氣相沉積、清洗機、原子層沉積等集成電路設備90/55/40/28納米工藝驗證，部分設備已突破先進制程，實現(xiàn)產業(yè)化。
在清洗設備上發(fā)展喪，北方華創(chuàng)與2018年收購了美國半導體清洗設備公司Akrion，完善了清洗設備產線。目前該公司可提供各種單片清洗設備和全自動槽清洗設備，可適用于技術節(jié)點為65nm、28nm工藝的芯片制造。
通過對比上述三家企業(yè)可明顯得知，北方華創(chuàng)重視企業(yè)產品的全鏈條發(fā)展，盛美上海則在清洗設備設備環(huán)節(jié)愈加精細化，并逐步開拓其他鏈條。至純科技則高度對標國際企業(yè)，聚焦高端產品，各家公司差異化競爭趨勢明顯。
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